[nikomat:23670] Re: ETV

[ichikawa@tutkie.tut.ac.jp (纂�頒兎就轣蛹�犀川⊂埓郤�勝ー��]

In the message <199810081038.AAA023690@tokimec.co.jp>,
    Shigeki Ohtsuka writes:
> 
> 一応、可視光を使うプロセスもあります。
> 現在、一般的な0.25um～0.3umは、365nm（業界用語でi線）の光を使います。
> よって青紫色に見えたりします。

可視光は400-700nmですから、分類ではi線は紫外線ですよね。
一応辞書を引くと「紫外線は1-380nm」だそうです。

最小加工寸法が0.5μm位までの加工がg線(436nm)、
0.25μm位までがi線(365nm)、
そこから先が現在の先端製品でKrFエキシマレーザ(248nm)ですか。

monochromatic(単色光)なので色収差は関係なく、そのせいか？単
レンズの非球面で出来ているということのようですね。

10nmの誤差だとλ/25、100nmでλ/3位ですか(こういう計算で良い
んでしたっけ？) 反射望遠鏡の鏡だとF8でλ/16とかありますが、
たしかFが小さいほど精度は厳しくなる筈で、あんなでっかい明る
い非球面だと大変なんでしょうね。(よくわからない)

> また、描画パターンと波長が等しくて回折の影響などは？
> と思われるかもしれませんが、
> 技術革新はすごい物で、描画できます。
> 描画マスクに工夫（波長位相を利用した特殊な模様を使う）、
> 光源の工夫（輪郭？忘れてしまいました）等々。

波長以下の寸法を加工するのは原理上むりがあるので(光は波)、波
長と最小線幅はだいたい一致するのですよね。メモリのように規則
正しい物は位相シフトマスクなどで多少は無理がききます。超解像
というんでしたっけ？(昔はLSI工場でマイクロプロセッサを作って
いたはずの私 ^.^;;)

> レンズの精度は、パターン（LSIの模様）の原盤（だいたい１０倍で描かれてる）を
> 忠実に1/10して描画するための物だと思います。
> 当然、レンズの諸収差は限りなく無い方向で設計されているはず。
> これらがレンズ精度に起因しているのではないでしょうか？

0.18um位のステッパだと、開口数(NA)は0.5～0.7、焦点深度が
0.5-0.9um、露光面積は25～33mm角程度です。(日経マイクロデバイ
スによる)

子供の頃、天体望遠鏡の反射鏡自作キットでシコシコ放物面を手磨
きしたのを思い出しました。そうかピッチに溝を切るのはカッター
や彫刻刀でなくてもよかったのか。しかも網を使えば六角形に…
それにピッチを単体で使っていた(昔は松ヤニも混ぜたような…)

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  市川　周一  (Shuichi ICHIKAWA) <ichikawa@tutkie.tut.ac.jp>