[nikomat:23646] Re: ETV

[Shigeki Ohtsuka <s-ootsuka@tokimec.co.jp>]

毎度　大塚＠滋樹です。


    kenji@comm.yamaha.co.jp さんの、
    Thu, 8 Oct 98 09:53:19 JST の
    [nikomat:23639] ETV に関するメールにお返事申し上げます。

kenji> 光って言っても可視光線じゃないんじゃないかなぁ。
kenji> 今のLSIのプロセスって、0.3um(=300Å?)位じゃなかったかなぁ?

一応、可視光を使うプロセスもあります。
現在、一般的な0.25um〜0.3umは、365nm（業界用語でi線）の光を使います。
よって青紫色に見えたりします。

先端技術では（”最”は付かないっす）、
もうちょい短い波長を使う技術も開発されています。
250nm付近。

また、描画パターンと波長が等しくて回折の影響などは？
と思われるかもしれませんが、
技術革新はすごい物で、描画できます。
描画マスクに工夫（波長位相を利用した特殊な模様を使う）、
光源の工夫（輪郭？忘れてしまいました）等々。

また、ステッパーではなく直接描画する方法では、
0.4um程度の模様は356nmで描画可能です。（生産レベルではないですが．．．）

レンズの精度は、パターン（LSIの模様）の原盤（だいたい１０倍で描かれてる）を
忠実に1/10して描画するための物だと思います。
当然、レンズの諸収差は限りなく無い方向で設計されているはず。
これらがレンズ精度に起因しているのではないでしょうか？



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